Massflödesregulator

Brooks GF80 är en termisk massflödesregulator/massflödesmätare med metalltätning som kan användas till de flesta applikationer när det gäller att mäta och reglera alla typer av gaser.

Brooks® GF80 termiska massflödesregulatorer (MFC) och termisk massflödemätare (MFM) uppnår oöverträffad prestanda, tillförlitlighet och flexibilitet i många applikationer för mätning och kontroll av gasflöde. GF80 är Brooks patenterade 4:e generationens MultiFloTM-kapabla enhet. MultiFlo övervinner en långvarig begränsning av många termiska MFC:er – vid byte gastyper, en enkel korrektionsfaktor, såsom förhållandet mellan värmekapaciteten mellan kalibreringsgas och ny gas, kan inte ta hänsyn till noggrannhetsberövande viskositet och densitet skillnader.

Brooks GF80/GF81-serien är det perfekta valet för dig som använder termisk massa flödesregulatorer eller termiska massflödesmätare på en mängd olika gaser, som behöver byta gastyp ofta, eller som behöver ändra räckvidd med bibehållen gasmätning och kontrollnoggrannhet. Några exempel:

• Minska lagret av antalet gas- och seriespecifika MFC:er
• Solenergi, bioteknik, CVD, plasma, glas, banbeläggning, nanoteknik, vakuumbearbetning och liknande stora användare av massflödesmätare och massflödesregulatorer kommer i hög grad minska sina gas- och seriespecifika reservdelslager.
• FoU, forskning och laboratorieanvändare kan snabbt ändra experimentförhållanden och uppnå mycket bättre verklig processgasnoggrannhet jämfört med traditionella massflödesanordningar.

Brooks GF80 -serien har en korrosionsbeständig Hastelloy C-22-sensor för hållbar, långsiktig drift. Inställningstider under 1 sekund och 1 % av börvärdesnoggrannheten gör att GF80 ger tillförlitlig flödesmätning eller flödeskontroll i krävande gasflödestillämpningar. GF80 uppnår utmärkt till intern och extern läckageintegritet för utmanande processgaser som finns i CVD, solenergi och andra processer. Med ett brett utbud av digitala och analoga I/O-alternativ tillgängliga representerar GF80 en extremt kraftfull, men ändå enkel, uppgradering för befintliga MFC:er eller MFM:er.

 Funktioner

• Långsiktig nollstabilitet på <±0,5 % full skala per år
• <1 sekunds inställningstider
• Fullskaliga flödeshastigheter upp till 300 slpm
• Helmetalltätning flödesväg - 16µ tum Ra ytfinish
• Korrosionsbeständig Hastelloy®-sensor kan arbeta vid lägre temperaturer för gaser som är benägna att termiskt sönderfalla
• Programmerbar MultiFloTM-kapacitet – en enhet, tusentals gastyper och kombinationer utan att ta bort MFC från gasledningen eller att kompromissa med noggrannheten
• Klassens bästa temperaturkoefficientspecifikation genom aktiv temperaturkompensation
• Inbyggda självtestrutiner och oberoende diagnostik / serviceport
• kompakt mekanisk konstruktion med VCR koppling
• DeviceNetTM, Profibus®, RS-485 och analoga gränssnitt

 Fördelar

• Snabb <1 sekunds flödessättningstid eliminerar slöseri med gas och processvariabilitet
• Inga elastomertätningar som kan ha syregenomträngning, vilket kräver byte över tid
• MultiFloTM förenklar och effektiviserar föränderliga processgaser
• Nya gaser och/eller intervall kan ställas in på under 60 sekunder
• Mätnoggrannheten påverkas inte av temperaturvariationer
• Bekväm åtkomst till diagnostikport för maximal drifttid
• Kompakt storlek underlättar integrationen i trånga maskinutrymmen; utmärkt val för eftermontering
• Kommunikationsgränssnitt med flera protokoll förenklar integrationen i befintliga system

 Applikationsexempel

• Kostnadseffektiv eftermontering/uppgradering av äldre MFC:er i renoverade halvledarprocessverktyg
• Minska MFC-lager i sex-tums/åtta-tums halvledarfabriker
• Metallorganisk kemisk förångningsdeposition för tillverkning av LED och kraftenheter
• System för kemisk ångavsättning (CVD) för sol/tunnfilm
• Analytisk OEM-utrustning

 MultiFlo

MultiFlo-programmering är enkel och snabb – en ny gas och räckvidd kan programmeras under 60 sekunder plus att enheten kan programmeras utan att den tas ur drift eller koppla bort enheten från någon process eller verktygskontrollsystem.