Publicerat: 2022-09-22

GP200 - När hög noggrannhet är ett krav i processen

Brooks Instruments GP200 differenstryckbaserad massflödesregulator, med unik teknisk design som överträffar existerande begränsningar med dagens tryckbaserade massflöderegulatorer, möjliggör ett mycket exakt flöde av gas genom processen vid varierande förhållanden. GP200-serien är den första helt tryckokänsliga tryckbaserade massflödesregulatorn (P-MFC) som utformats särskilt för avancerade etsnings- och deponeringsprocesser inom halvledartillverkning.

Produktnytt

GP200 Tryckbaserade massflödesregulatorer

GP200-seriens P-MFC har en patenterad arkitektur som övervinner begränsningarna hos konventionella P-MFC:er för att ge den mest exakta processgastillförseln, även vid flöden av processgaser med lågt ångtryck. Den innehåller flera unika konstruktionsaspekter, bland annat en integrerad differenstrycksensor i kombination med en ventilarkitektur i nedströmsled. Detta möjliggör det mest exakta processgasflödet över det bredaste spektrumet av driftsförhållanden i branschen.

Applikationsområden:

• Halvledartillverkning
• Etsning
• Kemisk förångningsdeposition (CVD)
• Tillämpningar för gasflödesreglering som kräver en hög renhet av helmetall i flödesvägen.

Därför ska du välja GP200

Eftersom GP200-serien har stöd för ett väldigt brett spektrum av processförhållanden kan den användas som en ”drop-in”-ersättning och uppgradering för många traditionella P-MFC:er och termiska MFC:er. Den minskar komplexiteten och ägandekostnaden för gasflödessystemet eftersom den eliminerar behovet av komponenter som tryckregulatorer och omvandlare.

Minskad osäkerhet vid mätning med hjälp av en differenstrycksensor, ger överlägsen noggrannhet och repeterbarhet vid flödesmätning.

Lämplig för alla processförhållanden, tryck och gaser.

Exakt och repeterbar gasleverans, 2,5X snabbare flödesstabilisering för ökad genomströmning.

Fördelar:

• Genom att ta bort kravet på att matcha och kompensera två separata tryckgivare minskar GP200-differentialtryckstekniken mätosäkerheten för ökad noggrannhet, repeterbarhet och driftpre standa.

• Säkrare fabriksdrift vid lägre inloppstryck är nu möjlig med en P-MFC tack vare GP200-differenstryckgivaren som är särskilt optimerad för mätning av låga differenstryck.

• Den nedströmsbaserade ventilarkitekturen säkerställer att noggrannheten är oberoende av trycket i nedströmsledet, vilket möjliggör flödesleverans i tryck så höga som 1200 Torr. Den snabbstängande ventilen tar itu med icke-produktiva väntetider för receptet, eller ”svanseffekter”, som ses i uppströms MFC-ven tilkonstruktioner som kräver ytterligare tid för att avtappa sin interna gasvolym.

• Ultrasnabb, mycket repeterbar upp- och nedåtgående flödesstabiliseringstid möjliggör tätare processkontroll i avancerade deponerings- och etsningsprocesser med hög cykel.

• 100 gånger bättre avstängning av ventilen.

• Med MultiFlow™ kan MFC:s flödesområde i full skala skalas ner med en faktor på 3:1 utan att det påverkar noggrannhet, turndown eller läckage enligt specifikationerna, för optimal flexibilitet i process och lager.

• Bekväm användardisplay och oberoende diagnostik/serviceport underlättar installation, övervakning och felsökning av enheten.

Funktioner:

• Sann differentialtrycksmätning

• Drift med lägre inloppstryck

• Arkitektur för nedströmsventiler

• Anpassad transientrespons

• Noll läckage genom kontrollventil

• MultiFlow™-tekniken erbjuder oöverträffad flexibilitet - en enhet kan programmeras för tusentals olika gas- och flödeskonfigurationer utan att ta bort MFC:n från gasledningen eller kompromissa med noggrannheten.

• Lokal display visar flöde, temperatur, tryck och nätverksadress.

• DeviceNet™, EtherCAT®, RS-485 L-Protokoll och analoga gränssnitt.